Un estudio mediante técnicas de análisis de superficies dos sistemas de interés nanotecnológico: Películas ultradelgadas de Fluoruro de aluminio y Silicio nanoporoso. El primero es un aislador, tecnológicamente útil como resina electrolitográfica, que permite la fabricación de películas de espesor nanométrico. Durante los procedimientos usuales de fabricación de dispositivos "top-down" el bombardeo iónico y electrónico que se utiliza para producir patrones, puede afectar la resina debido a la producción de electrones.
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